Динамичко скенирање Оптички оптички систем Оптика: 1pc Мал фокус на леќи 、 1-2pcs Фокус леќи 、 Galvo огледало. Целиот оптички леќи формира функција на експанзија на зракот, фокусирање и отклонување на зракот и скенирање.
Проширениот дел е негативен леќа, т.е. леќи со мал фокус, кој реализира експанзија на зракот и движење на зумирање, леќите за фокусирање се состојат од група на позитивни леќи. Огледалото Галво е огледало во системот Галванометар.
(1) Оптимизација на дизајнот на леќи: Оптимален однос на сооднос на дијаметар до дебелина
(2) Праг на висока штета на леќи:> 30J/cm2 10ns
(3) ултра ниска облога за апсорпција, стапка на апсорпција: <20ppm
(4) Сооднос на дебелина на галванометар до дијаметар: 1 Alts35
(5) Точност на површината на леќите: <= λ/5
Пост-објективни леќи
| Максимален влез ученик (мм) | Оптика 1 дијаметар (мм) | Оптика 2 дијаметар (мм) | Оптика со 3 дијаметар (мм) | Поле за скенирање (мм) | Јасен отвор на скенер (мм) | Бранова должина |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6ум |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Рефлектор огледало
| Опис на дел | Дијаметар (мм) | Дебелина (мм) | Материјал | Облога |
| Силиконски рефлектор | 25.4 | 3 | Силикон | HR@10.6um,AOI: 45 ° |
| Силиконски рефлектор | 30 | 4 | Силикон | HR@10.6um,AOI: 45 ° |
| Рефлектор на влакна | 25.4 | 6,35 | Фузионирана силика | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| Рефлектор на влакна | 30 | 5 | Фузионирана силика | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| Рефлектор на влакна | 50 | 10 | Фузионирана силика | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| 532 рефлектор | 25.4 | 6 | Фузионирана силика | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 рефлектор | 25.4 | 6,35 | Фузионирана силика | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 рефлектор | 30 | 5 | Фузионирана силика | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 рефлектор | 50 | 10 | Фузионирана силика | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 355 рефлектор | 25.4 | 6 | Фузионирана силика | HR@355NM & 433NM, AOI: 45 ° |
| 355 рефлектор | 25.4 | 6,35 | Фузионирана силика | HR@355NM & 433NM, AOI: 45 ° |
| 355 рефлектор | 25.4 | 10 | Фузионирана силика | HR@355NM & 433NM, AOI: 45 ° |
| 355 рефлектор | 30 | 5 | Фузионирана силика | HR@355NM & 433NM, AOI: 45 ° |
Галво огледало
| Опис на дел | Максимален влез ученик (мм) | Материјал | Облога | Бранова должина |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Силикон | MMR@10.6um | 10.6ум |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Фузионирана силика | HR@1030-1090NM | 1030-1090nm |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Фузионирана силика | HR@532nm | 532nm |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Фузионирана силика | HR@355nm | 355nm |
Заштитни леќи
| Дијаметар (мм) | Дебелина (мм) | Материјал | Облога |
| 75 | 3 | Znse | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | Znse | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | Znse | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | Znse | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | Znse | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | Znse | AR/AR@10.6um |
