Оптика на динамички скенирачки оптички систем: 1 мал фокусен објектив, 1-2 фокусни објективи, Galvo огледало. Целата оптичка леќа формира функција на ширење на зракот, фокусирање и отклонување на зракот и скенирање.
Делот што се шири е негативна леќа, т.е. мала фокусна леќа, која реализира ширење на зракот и подвижно зумирање, фокусирачката леќа е составена од група позитивни леќи. Галво огледалото е огледало во галванометарскиот систем.
(1) Оптимизација на дизајнот на леќата: Оптимален сооднос на дијаметарот и дебелината
(2) Висок праг на оштетување на леќата: >30J/cm2 10ns
(3) Облога со ултра ниска апсорпција, стапка на апсорпција: <20ppm
(4) Однос на дебелината на галванометарот кон дијаметарот: 1:35
(5) Точност на површината на леќата: <= λ/5
Пост-објективна леќа
| Максимален влезен ученик (мм) | Оптика 1 Дијаметар (мм) | Дијаметар на оптика 2 (мм) | Оптика 3 Дијаметар (мм) | Поле за скенирање (мм) | Јасна бленда на скенерот (мм) | Бранова должина |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10,6 μm |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Рефлекторско огледало
| Опис на делот | Дијаметар (мм) | Дебелина (мм) | Материјал | Обложување |
| Силиконски рефлектор | 25,4 | 3 | Силикон | HR@10.6um,АОИ: 45° |
| Силиконски рефлектор | 30 | 4 | Силикон | HR@10.6um,АОИ: 45° |
| Рефлектор на влакна | 25,4 | 6.35 | Фузија на силициум диоксид | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Рефлектор на влакна | 30 | 5 | Фузија на силициум диоксид | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Рефлектор на влакна | 50 | 10 | Фузија на силициум диоксид | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| 532 Рефлектор | 25,4 | 6 | Фузија на силициум диоксид | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Рефлектор | 25,4 | 6.35 | Фузија на силициум диоксид | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Рефлектор | 30 | 5 | Фузија на силициум диоксид | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Рефлектор | 50 | 10 | Фузија на силициум диоксид | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 355 Рефлектор | 25,4 | 6 | Фузија на силициум диоксид | HR@355nm и 433nm, AOI: 45° |
| 355 Рефлектор | 25,4 | 6.35 | Фузија на силициум диоксид | HR@355nm и 433nm, AOI: 45° |
| 355 Рефлектор | 25,4 | 10 | Фузија на силициум диоксид | HR@355nm и 433nm, AOI: 45° |
| 355 Рефлектор | 30 | 5 | Фузија на силициум диоксид | HR@355nm и 433nm, AOI: 45° |
Галво огледало
| Опис на делот | Максимален влезен ученик (мм) | Материјал | Обложување | Бранова должина |
| 55ммД*35ммШ*3,5ммТ-X 62ммД*43ммШ*3,5ммТ-Ж | 30 | Силикон | MMR@10.6um | 10,6 μm |
| 55ммД*35ммШ*3,5ммТ-X 62ммД*43ммШ*3,5ммТ-Ж | 30 | Фузија на силициум диоксид | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
| 55ммД*35ммШ*3,5ммТ-X 62ммД*43ммШ*3,5ммТ-Ж | 30 | Фузија на силициум диоксид | HR@532nm | 532nm |
| 55ммД*35ммШ*3,5ммТ-X 62ммД*43ммШ*3,5ммТ-Ж | 30 | Фузија на силициум диоксид | HR@355nm | 355nm |
Заштитна леќа
| Дијаметар (мм) | Дебелина (мм) | Материјал | Обложување |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2,5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
